LED驱动芯片的制造流程是怎样的?
1、 渡膜工艺一般用真空蒸镀方法,其主要在1.33×10?4Pa高真空下,用电阻加热或电子束轰击加热方法使材料熔化,并在低气压下变成金属蒸气沉积在半导体材料表面。一般所用的P型接触金属包括AuBe、AuZn等合金,N面的接触金属常采用AuGeNi合金。镀膜后形成的合金层还需要通过光刻工艺将发光区尽可能多地露出来,使留下来的合金层能满足有效可靠的低欧姆接触电极及焊线压垫的要求。光刻工序结束后还要通过合金化过程,合金化通常是在H2或N2的保护下进行。合金化的时间和温度通常是根据半导体材料特性与合金炉形式等因素决定。当然若是蓝绿等LED驱动芯片电极工艺还要复杂,需增加钝化膜生长、等离子刻蚀工艺等。
2、LED驱动芯片的制造工艺流程:外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。
3、其实外延片的生产制作过程是非常复杂的,在展完外延片后,下一步就开始对LED外延片做电极(P极,N极),接着就开始用激光机切割LED外延片(以前切割LED外延片主要用钻石刀),制造成芯片后,在晶圆上的不同位置抽取九个点做参数测试。
4、 主要对电压、波长、亮度进行测试,能符合正常出货标准参数的晶圆片再继续做下一步的操作,如果这九点测试不符合相关要求的晶圆片,就放在一边另外处理。
5、      æ¶åå岿è¯çåï¼100%çç®æ£ï¼VI/VCï¼ï¼æä½è è¦ä½¿ç¨æ¾å¤§30åæ°çæ¾å¾®éä¸è¿è¡ç®æµã
6ãæ¥ç使ç¨å ¨èªå¨åç±»æºæ ¹æ®ä¸åççµåï¼æ³¢é¿ï¼äº®åº¦ç颿µåæ°å¯¹è¯çè¿è¡å ¨èªå¨åæéãæµè¯ååç±»ãã
7ãæå对LED驱å¨è¯çè¿è¡æ£æ¥ï¼VCï¼åè´´æ ç¾ãè¯çåºåè¦å¨èèçä¸å¿ï¼èè䏿夿5000ç²è¯çï¼ä½å¿ é¡»ä¿è¯æ¯å¼ èèä¸è¯ççæ°éä¸å¾å°äº1000ç²ï¼è¯çç±»åãæ¹å·ãæ°éåå çµæµéç»è®¡æ°æ®è®°å½å¨æ ç¾ä¸ï¼éå¨è¡å 纸çèé¢ãèèä¸çè¯çå°åæåçç®æ£æµè¯ä¸ç¬¬ä¸æ¬¡ç®æ£æ åç¸åï¼ç¡®ä¿è¯çæåæ´é½åè´¨éåæ ¼ãè¿æ ·å°±å¶æLED驱å¨è¯çï¼ç®åå¸åºä¸ç»ç§°æ¹çï¼ãå¨LED驱å¨è¯çå¶ä½è¿ç¨ä¸ï¼æä¸äºæç¼ºé·çæè çµææç£¨æçè¯çï¼åæ¡åºæ¥ï¼è¿äºå°±æ¯åé¢çæ£æ¶ï¼æ¤æ¶å¨èè䏿ä¸äºä¸ç¬¦åæ£å¸¸åºè´§è¦æ±çæ¶çï¼ä¹å°±èªç¶æäºè¾¹çææ¯ççã